• Fiche technique

Introduction:

La machine de lithographie TG2U est utilisée dans le LSI, le capteur, le composant à ondes de surface, la bulle magnétique, les micro-ondes, le CCD, etc.

Remarque

1. Taille du modèle:

a. 100×100×2-3mm;

b. 75×75×2-3mm;

2. Taille du silicium: Φ50-Φ75mm, réel Largeur de ligne 3-4цm;

3. Déplacement comparatif entre gabarit et silicium:

a. X,Y ≥±2.5mm;

b. θ(rotate)≥±5°;

4. Station de support (silicium) rotation de l'axe Z: réglage approximatif 360°, réglage fin ±5;

5. Plage de déplacement intégrée du poste de travail: X, Y intègrent Φ75mm ;

6. L'espace entre la station de base de la balle et le gabarit: 0-7mm;

7. Système d'exposition: GCQ200W sur boule haute pression Hg, longueur d'onde d'exposition: 300～436nm;

8. L'énergie n'est pas inférieure à 407nm de longueur d'onde; 7mw/cm;

9. Inégal est à moins de Φ75mm: ±5%:

10. Longueur d'onde d'éclairage: ≈545 nm;

11. Temps d'exposition: 0.01 seconde-99. 99 minutes;

12. La plage de mise au point des jumelles: 13mm;

13. Le zoom des jumelles;

a. Paire oculaire: lOX,16X;

b. Objectif champ plat: 6X, 9X, 15X;

c. Zoom arrière total: 60X-240X;

14. Vide touchant la pression: ≥O. 7Kgf;

15. Source de courant;

a. La fréquence: 50HZ(Z);

b. Tension d'entrée tournée: 190V-230V;

c. Consommation d'énergie: ≤300VA;

16. Dimension: 1000X850X980mm (2 boîtes)

17. Poids: ≈200Kg;

(1) Alimentation en vide: ≥450mm Hg;

(2) Le dispositif de stabilité de l'alimentation en air est ci-dessous.

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